Sistema aumentado plasma do depósito de vapor químico do ISO 1000KW Vídeo da China

Sep 15, 2024

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Descrição do produto: Máquina aumentada plasma do sistema do depósito de vapor químico PECVD O sistema de PECVD, ionizando o gás decontenção com micro-ondas ou radiofrequência, cria o plasma ativo localmente, que reagirá facilmente para depositar e formar o filme fino previsto. É apropriado para o processo de PECVD, tal como o carboneto de silicone que reveste o teste cerâmico da condutibilidade da carcAprenda mais

Sistema aumentado plasma do depósito de vapor químico do ISO 1000KW

Sistema aumentado plasma do depósito de vapor químico do ISO 1000KW

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XDEM-1200T-PECVD

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