Especificações
Local de origem :
China
Número do modelo :
Wf6
Quantidade mínima de encomenda :
1 peça
Condições de pagamento :
L/C, T/T
Capacidade de abastecimento :
200 t/ano
Tempo de entrega :
15 dias
Detalhes da embalagem :
cilindro/tanque
Nome do produto :
Hexafluoreto de tungsténio
Aparência :
Não colorido
Transportes :
Por mar
Purificação :
99.999%
Modelo N.O. :
Hexafluoreto de tungsténio
Pacote de transporte :
10L 40L 50L
Especificações :
10L 40L 50L
Marca comercial :
CMC
Origem :
China
Código do SH :
2812190091
Número CAS. :
7783-82-6
Fórmula :
Wf6
EINECS :
232-029-1
Constituinte :
Ar puro industrial
Padrão de classificação :
Categoria industrial
Propriedade química :
Gás de apoio à combustão
Personalização :
Disponível
Descrição

Descrição do produto

O gás hexafluoreto de tungstênio, muitas vezes abreviado como WF6, é um composto químico composto de tungstênio (W) e flúor (F).Aqui estão alguns pontos-chave sobre o gás hexafluoreto de tungstênio:

  1. Fórmula e estrutura química: o hexafluoreto de tungstênio tem a fórmula química WF6.

  2. Propriedades físicas: O hexafluoreto de tungstênio é um gás denso com um peso molecular de 297,84 g/mol.8°F) e é tipicamente armazenado e manuseado na sua forma líquida em condições controladas.

  3. Reatividade: O WF6 é altamente reativo e reage facilmente com uma variedade de substâncias. Reage vigorosamente com água, umidade e oxigênio, liberando gás tóxico fluoreto de hidrogênio (HF).Devido à sua reatividade, o WF6 é comumente utilizado como fonte de flúor em vários processos químicos.

  4. Aplicações: O hexafluoreto de tungsténio tem várias aplicações industriais, incluindo:

    • Indústria de semicondutores: o WF6 é utilizado como precursor na produção de películas ou camadas de tungsténio em processos de fabrico de semicondutores,como a deposição química de vapor (CVD) e a deposição de camada atómica (ALD)Serve como fonte de tungsténio para depositar filmes finos em circuitos integrados e outros dispositivos eletrónicos.

    • Deposição química de vapores metálicos-orgânicos (MOCVD):O WF6 é utilizado em processos MOCVD para depositar filmes de tungstênio na produção de diodos emissores de luz (LEDs) de alto brilho e outros dispositivos optoeletrônicos.

    • Tratamento de superfície: o WF6 é empregado em aplicações de tratamento de superfície, como gravação e limpeza de metais, cerâmica e superfícies de vidro.

    • Pesquisa e Desenvolvimento: O hexafluoreto de tungstênio é às vezes usado em laboratórios de pesquisa como fonte de tungstênio ou como reagente que contém flúor em várias reações químicas.

  5. Considerações de segurança: O hexafluoreto de tungstênio é um gás tóxico e corrosivo.Manejo adequado, os procedimentos de armazenagem e eliminação, bem como a utilização de equipamento de protecção individual adequado, são essenciais para garantir a segurança dos trabalhadores.

É importante notar que as aplicações específicas, os procedimentos de manuseio e as considerações de segurança para o hexafluoreto de tungsténio podem variar consoante a indústria e a utilização prevista.Recomenda- se consultar as orientações de segurança pertinentes, regulamentos e da ficha de dados de segurança dos materiais (DSM) fornecida pelo fabricante para obter informações completas sobre a manipulação e utilização seguras do WF6.

                               Deposição de películas metálicas de tungstênio Aplicação de semicondutores Gás Hexafluoreto de tungstênio
Resumo

Informações básicas.

Modelo N.O. WF6 Pacote de transporte Frigorífico
Especificações 10 L/15 kg Marca comercial CMC
Origem Suzhou, China Código do SH 2812190091
Capacidade de produção 200 t/ano    

Especificações do produto:


ungsten Hexafluoride WF6 GAS
Número CAS: 7783-82-6
EINECS n.o: 232-029-1
Número da ONU: UN2196
Pureza: 99,999%
Classe de pontos: 2.3
Aparência: incolor
Padrão de grau: grau de elétron, grau industrial



O COA do produto:
 
Elementos de ensaio Unidades Requisitos de qualidade Resultados dos ensaios
CF4 ppm < 0.5 < 0.01
O2 ppm < 0.5 < 0.01
N2 ppm < 1 0.03
CO ppm < 0.5 < 0.02
CO2 ppm < 0.5 < 0.01
SiF4 ppm < 0.5 < 0.1
SF6 ppm < 0.5 < 0.1
HF ppm < 5 0.19
Al ppb ≤ 10 < 0.020
Como ppb ≤ 10 < 0.001
B ppb ≤ 10 < 0.005
Ca ppb ≤ 5 < 0.200
Cd ppb ≤ 2 < 0.001
Cr ppb ≤ 10 < 0.020
Fe ppb ≤ 10 < 0.007
K ppb ≤ 5 < 0.100
- Não ppb ≤ 10 < 0.001
Não. ppb ≤ 5 < 0.040
- Não. ppb ≤ 0.1 < 0.001
Ti ppb ≤ 10 < 0.002
Li ppb ≤ 10 < 0.002
U ppb ≤ 0.05 < 0.001
Zn ppb ≤ 10 < 0.005
Sim ppb ≤ 10 < 0.100
Pb ppb ≤ 10 < 0.001
P ppb ≤ 2 < 0.300
Mg ppb ≤ 10 < 0.020
Não. ppb ≤ 20 < 0.030
Cu ppb ≤ 5 < 0.005
Mo. ppb ≤ 10 < 0.001
Impuridades totais de outros metais ppb ≤ 500

Deposição de películas metálicas de tungstênio Aplicação de semicondutores Gás Hexafluoreto de tungstênio
Shanghai Kemike Chemical Co., Ltd é composta por pessoal treinado, combinar muitos anos de experiência na indústria de gás.Nós fornecemos cilindro de gás, gás eletrônico, etc. e o suporte de gás, painel,Válvulas e acessórios e outros equipamentos, peças e serviços de engenharia para os nossos clientes na China e em todo o mundo; Os produtos estão envolvidos em vários campos industriais, tais como chips de semicondutores, células solares, LED, TFT-LCD, fibra óptica,vidroA nossa missão é colaborar com os nossos clientes globais para fornecer apoio, soluções e produtos de qualidade que sejam inovadores, fiáveis e seguros.
Os nossos produtos incluem principalmente: H2, O2, N2, Ar, CO2, propano, acetileno, hélio, gás misto a laser, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, gás misto dopante (TMB, PH3,B2H6) e outros gases electrónicos.
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