Níquel Metal Níquel Substrato de cristal único 5x5 10x10 20x20 1453°C Densidade 8,9 g/cm3 Dureza elevada
Os substratos de níquel (Ni), particularmente na forma de wafers de níquel, são amplamente utilizados na ciência dos materiais e na pesquisa eletrônica devido às suas propriedades versáteis.Disponível em dimensões de 5x5x0.5 mm, 10x10x1 mm e 20x20x0,5 mm, estes substratos são orientados ao longo dos principais planos cristalográficos como <100>, <110> e <111>.Estas orientações são críticas na influência da deposição de película finaOs substratos de níquel são comumente utilizados em aplicações que envolvem catálise,Materiais magnéticosA sua elevada resistência mecânica e resistência à corrosão tornam-nas igualmente adequadas para técnicas avançadas de revestimento,desenvolvimento de sensoresA combinação de precisão cristalográfica, flexibilidade dimensional,e material de níquel de alta qualidade assegura que estes substratos proporcionam um desempenho óptimo em aplicações experimentais e industriaisCom a sua capacidade de suportar uma ampla gama de películas finas e revestimentos, os substratos de Ni são essenciais para o desenvolvimento de novos materiais e dispositivos em vários campos de alta tecnologia.

Características
- Alta dureza e resistência, pode ser duro a 48-55 HRC.
- Tem uma boa resistência à corrosão, especialmente a meios químicos como ácidos e álcalis.
- A boa condutividade elétrica e as propriedades magnéticas são um dos principais componentes na fabricação de ligas eletromagnéticas.
- Baixo coeficiente de expansão térmica, bom alongamento com outros metais, cerâmicas e outros materiais.
- Bom desempenho de processamento, pode ser utilizado fundição, forja, extrusão e outros processos de moldagem.
- O preço é relativamente elevado, e é um metal precioso relativamente caro.

Parâmetros técnicos
Principais parâmetros dos substratos de níquel monocristalino |
SKU: |
WA1510-WA1512 |
Materiais |
Não. |
CAS# |
7440-02-0 |
Purificação |
990,99% (4N) |
Estrutura cristalina |
Quadrado |
Constante de célula unitária |
a = 3.5238Å |
Ponto de fusão |
1,453 oC |
Densidade |
80,9 g/cm3 |
Expansão térmica |
13.3 x 10-6K- Um. |
Tamanhos |
10 mm x 10 mm x 0,5 mm |
Outros tamanhos disponíveis mediante pedido |
Polir de superfície |
Limpeza de lado único é padrão, lustrado de lado duplo a pedido |
Orientações cristalinas |
(100), (110), (111) |
A rugosidade da superfície, Ra |
< 10 nm |
Pacote |
Selado em classe 100 sacos limpos embalados em classe 1000 sala limpa |
Aplicações
1. Campo elétrico e eletrónico: como material condutor e material de contacto para componentes electrónicos.e transformadoresÉ utilizado em sistemas elétricos, tais como conectores eletrónicos e linhas de transmissão.
2Indústria química: como material estrutural para equipamentos químicos, recipientes, tubulações, etc. É utilizado no fabrico de equipamentos de reação química com elevados requisitos de resistência à corrosão.É utilizado em campos farmacêuticos, petroquímicos e outros com requisitos rigorosos para a resistência à corrosão dos materiais.
3Campo aeroespacial: utilizado para fabricar componentes-chave de equipamentos aeroespaciais, como aeronaves e foguetes.É utilizado em componentes de alta temperatura e alta pressão, como motores de turbina e bocas de cauda de mísseisÉ amplamente preferido pelas suas excelentes propriedades mecânicas e resistência à alta temperatura.
4. Decoração e outros: usado como materiais decorativos, como jóias e artesanato. É usado na produção de materiais de liga metálica de alta qualidade, como aço inoxidável.É utilizado em campos industriais emergentes, tais como catalisadores e baterias.


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