Substratos de semicondutores de wafer de germânio < 111> concentrando CPV fotovoltaico
O germânio de alta pureza é dopado com elementos trivalentes (por exemplo, ínio, gálio, boro) para obter semicondutores de germânio de tipo P.e elementos pentavalentes (e.g., antimônio, arsénio e fósforo) dopados para obter semicondutores de germânio de tipo N. Eles têm alta mobilidade de elétrons e alta mobilidade de buracos.Os substratos de germânio de alta qualidade podem ser utilizados em energia fotovoltaica concentrada (CPV), painéis solares no espaço e aplicações de diodos emissores de luz (LED) de alto brilho.


Características
- A constante de rede é maior do que a do silício, o que favorece a construção de heterostruturas.
- A elevada mobilidade dos elétrons, cerca de 3 vezes superior à do silício, é favorável à fabricação de dispositivos electrónicos de alta velocidade.
- A pequena largura de banda (0,67 eV) torna-o adequado para aplicações de detecção fotoelétrica e emissões infravermelhas.

É mais sensível à radiação e é adequado para equipamentos eletrónicos sensíveis à radiação.
A tecnologia de processamento é relativamente complexa e o custo é elevado.
Parâmetros técnicos

Aplicações
1- Eletrónica analógica e RF de alta frequência: diodos de microondas, transistores, circuitos integrados; Equipamento electrónico na banda de frequências de microondas, como radar e comunicações.
2Detecção e emissão fotoeléctrica por infravermelho: detector infravermelho, aparelho de imagem térmica; diodos emissores de infravermelho, diodos laser.
3Equipamento electrónico sensível à radiação: Heterostrutura de semicondutores compostos: Sistema de aviónica aeroespacial; Centrais nucleares e equipamento electrónico no domínio militar.
4Heterostrutura de semicondutores compostos: materiais de substrato para compostos III-V, tais como GaAs, InP, etc.; células solares de estrutura heterogénea, diodos laser, etc.

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Perguntas frequentes