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CMP Polishing Ceramic Block Semiconductor Consumables ISO9001
CMP Polishing Ceramic Block Semiconductor Consumables ISO9001
Especificações
Local de origem :
Henan, China
Quantidade mínima de encomenda :
Uma parte
Capacidade de abastecimento :
50000 partes pelo mês
Tempo de entrega :
7 a 10 dias
Detalhes da embalagem :
Pacote padrão para a exportação
Descrição

O bloco cerâmico é feito de pó de alumina de alta pureza e ultrafinos por cura a alta temperatura.

 

Principais características

Alta pureza, menos impurezas, alta dureza, resistência ao desgaste e à corrosão.

Alta precisão, pequeno coeficiente de expansão térmica e boa retenção de precisão, boa resistência ao desgaste e à corrosão.

 

Aplicação

É utilizado principalmente para o afinamento, polir duro e polir CMP de substratos de LED e wafers de semicondutores ((wafer de safira, wafer de SiC, wafer de silício, wafer de germânio, wafer de GaAs, wafer de GaN, etc.).

 

Especificações

CMP Polishing Ceramic Block Semiconductor Consumables ISO9001

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Detalhes do produto
Local de origem :
Henan, China
Quantidade mínima de encomenda :
Uma parte
Capacidade de abastecimento :
50000 partes pelo mês
Tempo de entrega :
7 a 10 dias
Detalhes da embalagem :
Pacote padrão para a exportação
Fornecedor de contacto
CMP Polishing Ceramic Block Semiconductor Consumables ISO9001

China Abrasives Industry Hainan Corporation

Active Member
3 Anos
hainan, hainan
Desde 1988
Produtos principais :
, ,
Total Anual :
200000000-400000000
Número de trabalhadores :
100~200
Nível de certificação :
Active Member
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