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Camada dielétrica excelente da bolacha térmica mais alta do óxido da uniformidade como um isolador
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Especificações
Number modelo :
MS
Lugar de origem :
China
MOQ :
1 parte
Termos do pagamento :
L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
Capacidade da fonte :
10000 partes pelo mês
Prazo de entrega :
3 dias de trabalho
Detalhes de empacotamento :
Caixa de madeira forte para o transporte global
Aplicação :
circuitos integrados, dispositivo do detector/sensor, fabricação de MEMS, componentes opto-eletrônic
Diâmetro :
Ø 2"/Ø 3"/Ø 4"/Ø 6"/Ø 8"/Ø 12"
Espessura do óxido :
100 A ~ 6 um
Categoria :
Categoria principal/teste/manequim
Descrição

 

Bolacha térmica do óxido, uniformidade mais alta, e força dielétrica mais alta, camada dielétrica excelente como um isolador

 

A camada térmica do dióxido do óxido ou de silicone é formada na superfície desencapada do silicone na temperatura elevado na presença de um oxidante, o processo é chamada oxidação térmica. O óxido térmico é crescido normalmente em uma fornalha de tubo horizontal, na variação da temperatura de 900°C ~ 1200°C, usando “um método molhado” ou “seco” do crescimento. O óxido térmico é um tipo da camada “crescida” do óxido, comparado ao CVD depositou a camada do óxido, tem uma uniformidade mais alta, e uma força dielétrica mais alta, é uma camada dielétrica excelente como um isolador. Na maioria de silicone baseou dispositivos, a camada térmica do óxido joga um papel importante para pacificar a superfície do silicone para atuar como a lubrificação de barreiras e como os dielétricos de superfície. nós fornecemos a bolacha térmica do óxido no diâmetro de 2" a 12", nós escolhemos sempre a categoria e o defeito principais - bolacha de silicone livre como a carcaça para crescer a camada térmica do óxido da uniformidade alta para cumprir suas exigências específicas. Contacte-nos para mais informações sobre do preço & do prazo de entrega.

 

Capacidade térmica do óxido

Tipicamente após o processo térmico da oxidação, a parte anterior e o verso da bolacha de silicone têm a camada do óxido. Caso que somente uma camada lateral do óxido é exigida, nós podemos remover para trás a bolacha térmica do óxido e do óxido do lado da oferta uma para você.
 

Escala da espessura do óxido Técnica da oxidação Dentro da bolacha
uniformidade		 Bolacha à bolacha
uniformidade		 Superfície processada
100 Å ~ 500Å óxido seco +/- 5% +/- 10% ambos os lados
600 Å ~ 1000Å óxido seco +/- 5% +/- 10% ambos os lados
100 nanômetro ~ 300 nanômetro óxido molhado +/- 5% +/- 10% ambos os lados
400 nanômetro ~ 1000 nanômetro óxido molhado +/- 3% +/- 5% ambos os lados
1 um ~ 2 um óxido molhado +/- 3% +/- 5% ambos os lados
3 um ~ 4 um óxido molhado +/- 3% +/- 5% ambos os lados
5 um ~ 6 um óxido molhado +/- 3% +/- 5% ambos os lados

Aplicação térmica da bolacha do óxido

 

100 A Portas da escavação de um túnel
150 A ~ 500 A Óxidos da porta
200 A ~ 500 A Os LOUCOS acolchoam o óxido
A 2000 ~ 5000 A Óxidos de máscara
3000 A ~ 10000 A Óxidos do campo

 

Especificação de produto

 
Técnica de Qxidation Oxidação molhada ou oxidação seca
Diâmetro Ø 2"/Ø 3"/Ø 4"/Ø 6"/Ø 8"/Ø 12"
Espessura do óxido 100 A ~ 6 um
Tolerância +/- 5%
Superfície Única camada lateral ou dobro do óxido dos lados
Fornalha Fornalha de tubo horizontal
Gase Gás do hidrogênio e do oxigênio
Temperatura ° DE 900 C - ° 1200 DE C
R.I. 1,456

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L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
Capacidade da fonte :
10000 partes pelo mês
Prazo de entrega :
3 dias de trabalho
Fornecedor de contacto
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HENAN ZG INDUSTRIAL PRODUCTS CO.,LTD

Active Member
5 Anos
henan, zhengzhou
Desde 2007
Tipo de empresa :
Manufacturer, Distributor/Wholesaler, Importer, Exporter
Produtos principais :
Elementos de aquecimento SiC, Elementos de aquecimento Mosi2, Peças cerâmicas industriais
Total Anual :
5000000-8000000
Número de trabalhadores :
50~100
Nível de certificação :
Active Member
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