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Alta pureza Sputter Coating Tantalum Target Tantalum Disc Target 99,95% 99,999%
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Especificações
Número do modelo :
Costumes
Local de origem :
China
Quantidade mínima de encomenda :
1pc
Condições de pagamento :
T/T, L/C
Capacidade de abastecimento :
5000kgs/mês
Tempo de entrega :
7~10 dias do trabalho
Detalhes da embalagem :
Caixa de madeira compensada
Nome :
Alvo de revestimento por pulverização de tântalo
Grau :
RO5200,RO5400,RO5252,RO5255,Ta1,Ta2
Purificação :
99.95% 99,99%
Forma :
Disco e placa
Tamanho :
Conforme o desenho do cliente
Densidade :
16,75g/cm3
Descrição

Alvo de Tântalo de Alta Pureza de Revestimento de Sputter Alvo de Disco de Tântalo

 

1Especificações De revestimento de sputter com alvo de tântalo:

 

Alvo de revestimento de tântalo por pulverização

 

Material: R05200, R05400, R05252 (Ta-2,5W), R05255 (Ta-10W)

Alvos circulares: dia 25 mm ~ 400 mm x espessura 3 mm ~ 28 mm

Alvos retangulares: espessura 1 mm ~ 12,7 mm x largura < 600 mmx comprimento < 2000 mm

Purificação: >= 99,95% ou 99,99%

Superfície: brilhante, polida

Condição: recozida

 

Também podemos processar de acordo com o seu pedido.

 

Grau 3N, 3N5, 4N, com Ta 99,99%min
Recristalização 95%min
Tamanho do grão ASTM 4 ou superior
Finalização da superfície 16 Rms max. ou Ra 0,4 (RMS 64 ou superior)
Planosidade 0.1 mm ou 0,15% no máximo
Tolerância +/- 0,010" em todas as dimensões

 

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2Composição químicaDe revestimento de sputter com alvo de tântalo:

 

Grau Conteúdo de elementos%)
C N O H Fe Sim Não. Ti Mo. W Nb - Não.
Ta1 0.01 0.005 0.015 0.0015 0.005 0.005 0.002 0.002 0.01 0.01 0.05 Fica.
Ta2 0.02 0.025 0.03 0.005 0.03 0.02 0.005 0.005 0.03 0.04 0.1 Fica.
TaNb3 0.02 0.025 0.03 0.005 0.03 0.03 0.005 0.005 0.03 0.04 1.5~3.5 Fica.
TaNb20 0.02 0.025 0.03 0.005 0.03 0.03 0.005 0.005 0.02 0.04 17 ~ 23 Fica.
TaNb40 0.01 0.01 0.02 0.0015 0.01 0.005 0.01 0.01 0.02 0.05 35 ~ 42 Fica.
TaW2.5 0.01 0.01 0.015 0.0015 0.01 0.005 0.01 0.01 0.02 2.0~3.5 0.5 Fica.
TaW7.5 0.01 0.01 0.015 0.0015 0.01 0.005 0.01 0.01 0.02 6.5 a 8.5 0.5 Fica.
TaW10 0.01 0.01 0.015 0.0015 0.01 0.005 0.01 0.01 0.02 9.0~11 0.1 Fica.

 

 

3AplicaçãoDe revestimento de sputter com alvo de tântalo:

 

O alvo de pulverização de tântalo é uma folha de tântalo obtida através de processamento sob pressão.É utilizado principalmente em fibras ópticasPara revestimentos de deposição de pulverização, os alvos de tântalo podem ser utilizados para revestimentos de pulverização de cátodos, materiais ativos de alta vazão, etc.,e são materiais importantes para a tecnologia de película fina.

 

4Vantagem do nosso alvo de Sputter Coating:


- superfície polida de alta qualidade.
- o grão uniforme com microstrutura densificada garante um tempo de utilização mais longo.

- serviço pós-venda profissional.

 

 

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China
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1pc
Condições de pagamento :
T/T, L/C
Capacidade de abastecimento :
5000kgs/mês
Tempo de entrega :
7~10 dias do trabalho
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Shaanxi Peakrise Metal Co.,Ltd

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4 Anos
Shaanxi, baoji
Desde 2010
Tipo de empresa :
Manufacturer, Exporter
Produtos principais :
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Total Anual :
1000000-5000000
Número de trabalhadores :
20~50
Nível de certificação :
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