Especificações
Ponto inicial de dano :
>10J/cm2
Materiais :
Vidro de sílica fundido
urdidura :
< 35um
Perpendicularity :
5 Sec. de Arco
Relatório de inspeção :
Pelo pedido
Índice de refração :
1.46, 1.472, 1.50, 1.51, 1.523
Impuridades metálicas :
< 0,2 ppm
Chanfro :
0,25 mm x 45°
Descrição

Descrição do produto:

A Wafer de Sílica Fundida é feita de vidro de silicato de alumina e vidro de borosilicato.É um material ideal para muitas aplicações devido às suas excelentes propriedades ópticas e baixo coeficiente de expansão térmicaA Wafer de Silício Fundido está disponível em diferentes tamanhos, incluindo componentes ópticos, wafers semicondutores e componentes microeletrônicos.de diâmetro compreendido entre 2 e 12 polegadasTem um convexo de 0,25 mm X 45 ° e tem uma deformação de menos de 35 um. Tem um TTV baixo de menos de 2 um e menos de 5 um. Além disso, pode ser revestido com AR, HR e V-Coat para vários fins.

 

Características:

  • Nome do produto: Wafer de sílica fundida
  • Revestimento: AR, HR, V-Coat
  • Distância de transmissão: 0,17 ~ 2,1 um, 0,26 ~ 2,1 um, .0185~3.5um
  • Marca: Corning, Schott, OHARA, FLH, China Glass
  • Refletividade: < 0,25%
  • Perpendicularidade: 5 sec. de arco
  • Material: Vidro borosilicato
  • Substrato: Placas de silicato de cálcio
  • Aplicação: Wafer de Silício IC
 

Parâmetros técnicos:

Materiais Sílica fundida por UV, quartzo fundido (JGS1, JGS2, JGS3)
Especificações unidade 3 ¢ 4 ¢ 5" 6" 8" 12"
Diâmetro (ou quadrado) mm 76.2 100 125 150 200 300
Tol (±) mm < 0,1 a 0,25 mm
Espessura mais fina mm > 010 > 010 > 030 > 030 > 030 > 050
Flat primário mm 22 32.5 42.5 57.5/marca embocadura embocadura
LTV (5mmx5mm) μm < 2 < 2 < 2 < 2 < 2 < 10
TTV μm < 8 < 10 < 15 < 20 < 30 < 30
Incline-se. μm ± 20 ± 25 ± 40 ± 40 ± 60 ± 60
Warp. μm < 30 < 40 < 50 < 50 < 60 < 60
PLTV ((< 0,5um) % ≥ 95% ((5 mm*5 mm)
Transmissão   Opção UV, Óptica, IR ou Personalizada
Arredondamento da borda mm Conforme com a norma SEMI M1.2/referência à IEC62276
Tipo de superfície   Polido de lado único/polido de lado duplo
Lado polido Ra nm < 1,0 nm ou específico conforme solicitado
Critérios do lado de trás μm Geral é 0,2-0,5μm ou conforme personalizado
Aparência Contaminação Nenhum
Partículas > 0,3 μm <= 30
Marcas de serra, estrias Nenhum
Escarrapar Nenhum
Fissuras, marcas de serra, manchas Nenhum

 

 

Atributos Valores
Materiais Wafer de sílica fundida, Wafer de sílica fundida de alta pureza
Índice de refração 1.46, 1.472, 1.50, 1.51, 1.523
Revestimento AR, HR, V-Coat
Paralelo 3 Sec. de Arco
Qualidade da superfície 20 a 10
Segundo piso Por pedido
Aplicação Semicondutores, MEMS, Médicos
Transmissão IR, visível, DUV
Modelo Schott Borofloat 33, B270, D263, Zerodur, MEMpax, BK7
Impuridades metálicas < 0,2 ppm
Arco-íris < 30um

 

Substrato de vidro de sílica fundido de 16 ± 2 mm, Wafer com relatório de inspecção 5 arc secSubstrato de vidro de sílica fundido de 16 ± 2 mm, Wafer com relatório de inspecção 5 arc sec

Aplicações:

Os substratos de vidro da BonTek são feitos de placa de silicato de cálcio, vidro de borosilicato e vidro de silicato de alumínio e são certificados pela ISO:9001. Cada wafer é embalado em uma cassete ou frasco e pode ser entregue dentro de 2 semanas após o pagamento ser feito através de TT / adiantado..25mm X 45° com uma densidade de 2,20g/cm3. Ele também tem um revestimento de AR, HR ou V-Coat e é certificado com ISO9001 e RoHS. O limiar de danos para a Wafer de Silício Fundido da BonTek é superior a 10J/cm2.A quantidade mínima de encomenda é de 5 peças.

 

Personalização:

Serviço personalizado de Wafer de Sílica Fundida da BonTek

BonTek é um fornecedor líder de Wafer de Sílica Fundida. Nós fornecemos serviço personalizado com base nas necessidades de nossos clientes. Nossa Wafer de Sílica Fundida pode ser usada para várias aplicações, como dispositivo optoeletrônico,Diodo emissor de luz, diodo laser, etc.

Características do produto:

  • Marca: BonTek
  • Número do modelo: Substrato de vidro
  • Local de origem: China
  • Certificação: ISO:9001
  • Quantidade mínima de encomenda: 5 peças
  • Detalhes da embalagem: Caixa, frasco
  • Prazo de entrega: 2 semanas
  • Termos de pagamento: TT/antecipado
  • Capacidade de abastecimento: 100000/mês
  • Revestimento: AR, HR, V-Coat
  • Índice de refração: 1.46, 1.472, 1.50, 1.51, 1.523
  • Marca: Corning, Schott, OHARA, FLH, China Glass
  • Contido de OH: < 5 ppm, < 10 ppm, < 100 ppm
  • Warp: <35um
  • Material: Sílica fundida de alta pureza, vidro de silicato de alumínio

A nossa Wafer de Silício Fundido é de alta qualidade, com baixo teor de OH, alto índice de refração e baixa deformação.

Se tiver alguma dúvida sobre o nosso serviço personalizado de Wafer de Sílica Fundida, não hesite em entrar em contato conosco.

 

Apoio e Serviços:

O suporte técnico e o serviço de Wafer de Sílica Fundida estão disponíveis para clientes que precisam de ajuda com seu produto.A nossa equipa técnica experiente está disponível para responder a quaisquer perguntas ou preocupações que os clientes possam terFornecemos suporte técnico para todos os nossos produtos, incluindo Fused Silica Wafer. Fornecemos assistência abrangente de solução de problemas e ajudaremos a encontrar soluções para qualquer problema técnico.

Também fornecemos serviços de manutenção e reparo de produtos. Nossa equipe de técnicos altamente treinados pode diagnosticar e reparar qualquer produto de Wafer de Sílica Fundida de forma rápida e eficiente.Temos as mais recentes ferramentas de diagnóstico e podemos fornecer tempos rápidos para todos os reparos.

Para os clientes que precisam de assistência na utilização de produtos de Wafer de Sílica Fundida, oferecemos serviços de formação abrangentes.Os nossos formadores experientes podem fornecer treinamento tanto no local como à distância para garantir que os clientes entendam como usar o seu produto corretamenteOferecemos também documentos de apoio ao produto para ajudar os clientes com o seu produto.

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Substrato de vidro de sílica fundido de 16 ± 2 mm, Wafer com relatório de inspecção 5 arc sec
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