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Diâmetro 2-12 polegadas Wafer de sílica com TTV 5um Substratos de vidro
Diâmetro 2-12 polegadas Wafer de sílica com TTV 5um Substratos de vidro
Especificações
Ponto inicial de dano :
>10J/cm2
Reflexão :
<0,25%
Paralelismo :
3 Sec. de Arco
curva :
<30um>
transmissão :
IR, visível, DUV
Relatório de inspeção :
Pelo pedido
Modelo FLH :
JGS1, JGS2, JGS3, F-HUV
Materiais :
Vidro de sílica fundido
Descrição

Descrição do produto:

A Wafer de Silício Fundido é uma wafer monocristalina de grau óptico feita de material de quartzo, também conhecido como quartzo fundido ou sílica fundida.como a gama de transmissão a partir de 0.17 a 2.1um, 0.26 a 2.1um e 0.0185 a 3.5um, deformação inferior a 35um, modelos FLH como JGS1, JGS2, JGS3 e F-HUV, segundo plano por solicitação e rugosidade da superfície Ra inferior a 1.0nm.Em comparação com outros materiais, tais como placas de silicato de cálcio e vidro de borosilicato, tem maior transmissão óptica, menor coeficiente de expansão térmica e melhor homogeneidade.janelas, e prismas.

 

Características:

  • Nome do produto: Wafer de sílica fundida
  • Transmissão: IR, Visível, DUV
  • Impuridades metálicas: < 0,2 ppm
  • BOW: < 30um
  • TTV: <2um, <5um
  • Material: vidro de sílica fundido
  • Wafer de vidro
  • Materiais de laboratório de quartzo fundido
  • Vidro de silicato de alumínio
  • Vidros ópticos
 

Parâmetros técnicos:

Materiais Sílica fundida por UV, quartzo fundido (JGS1, JGS2, JGS3)
Especificações unidade 3 ¢ 4 ¢ 5" 6" 8" 12"
Diâmetro (ou quadrado) mm 76.2 100 125 150 200 300
Tol (±) mm < 0,1 a 0,25 mm
Espessura mais fina mm > 010 > 010 > 030 > 030 > 030 > 050
Flat primário mm 22 32.5 42.5 57.5/marca embocadura embocadura
LTV (5mmx5mm) μm < 2 < 2 < 2 < 2 < 2 < 10
TTV μm < 8 < 10 < 15 < 20 < 30 < 30
Incline-se. μm ± 20 ± 25 ± 40 ± 40 ± 60 ± 60
Warp. μm < 30 < 40 < 50 < 50 < 60 < 60
PLTV ((< 0,5um) % ≥ 95% ((5 mm*5 mm)
Transmissão   Opção UV, Óptica, IR ou Personalizada
Arredondamento da borda mm Conforme com a norma SEMI M1.2/referência à IEC62276
Tipo de superfície   Polido de lado único/polido de lado duplo
Lado polido Ra nm < 1,0 nm ou específico conforme solicitado
Critérios do lado de trás μm Geral é 0,2-0,5μm ou conforme personalizado
Aparência Contaminação Nenhum
Partículas > 0,3 μm <= 30
Marcas de serra, estrias Nenhum
Escarrapar Nenhum
Fissuras, marcas de serra, manchas Nenhum

 

 

Parâmetros Especificações
Paralelo 3 Sec. de Arco
Warp. < 35um
Transmissão IR, visível, DUV
Densidade 2.20 g/cm3
Certificado ISO9001, RoHS
Teor de OH < 5 ppm, < 10 ppm, < 100 ppm
Limite de prejuízo > 10 J/cm2
Modelo FLH JGS1, JGS2, JGS3, F-HUV
Espessura 0.1-10 mm
Qualidade da superfície 20 a 10
Materiais de laboratório de quartzo fundido Silício fundido de alta pureza
Vidro de silicato de alumínio - Sim, sim.

 

Diâmetro 2-12 polegadas Wafer de sílica com TTV 5um Substratos de vidroDiâmetro 2-12 polegadas Wafer de sílica com TTV 5um Substratos de vidro

Aplicações:

Os wafers de sílica fundida de alta pureza da BonTek são um tipo de substrato de vidro feito de material de placa de silicato de cálcio com um nível extremamente baixo de impurezas metálicas inferior a 0,2 ppm.Estas placas têm um índice de refração de 1.46, 1.472, 1.50, 1.51São fabricados de acordo com as normas ISO:9001 e com bisel com ângulo de 0,25 mm x 45°.Disponível em uma variedade de diâmetros que variam de 2 a 12 polegadas, os wafers de sílica fundida da BonTek são adequados para uma ampla gama de aplicações e oferecem uma durabilidade e um desempenho excepcionais.Estes wafers podem ser embalados numa cassete ou num frasco e são fornecidos em quantidades de até 100000 por mês.O vidro de silicato de alumínio utilizado na fabricação destas placas garante uma resistência superior e resistência ao calor, tornando-as a escolha perfeita para qualquer aplicação que exija um desempenho superior.
 

Personalização:

Wafer de sílica fundida
  • Marca: BonTek
  • Número do modelo: Substrato de vidro
  • Local de origem: China
  • Certificação: ISO:9001
  • Quantidade mínima de encomenda: 5 peças
  • Detalhes da embalagem: Caixa, frasco
  • Prazo de entrega: 2 semanas
  • Termos de pagamento: TT/antecipado
  • Capacidade de abastecimento: 100000/mês
  • Diâmetro: 2-12 polegadas
  • Índice de refração: 1.46, 1.472, 1.50, 1.51, 1.523
  • Distância de transmissão: 0,17 ~ 2,1 um, 0,26 ~ 2,1 um, .0185~3.5um
  • Warp: <35um
  • Modelo FLH: JGS1, JGS2, JGS3, F-HUV
  • Palavras chave:Placas de silicato de cálcio, vidro de silicato de alumina, placas de silicato de cálcio, material isolante de alta temperatura
 

Apoio e Serviços:

Apoio técnico e serviço de wafer de sílica fundida

Fornecemos suporte técnico e serviço para Wafer de Sílica Fundida.

  • Reparação e manutenção de produtos de wafer de sílica fundida
  • Consultoria e solução de problemas de Wafer de Sílica Fundida
  • Instalação e configuração de wafer de sílica fundida
  • Ensaios e avaliação de wafer de sílica fundida
  • Atualizações de software para wafer de sílica fundida
  • Treinamento e apoio à Wafer de Sílica Fundida

Se tiver alguma dúvida ou precisar de apoio para a sua Wafer de Silício Fundido, por favor contacte-nos para mais informações.

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Hangzhou Freqcontrol Electronic Technology Ltd.

Verified Supplier
4 Anos
shanghai, hangzhou
Desde 1999
Tipo de empresa :
Manufacturer, Trading Empresa
Produtos principais :
Wafer Piezoelétrico, Bolacha LiNbO3, Bolacha LiTaO3
Total Anual :
800M-1500M
Número de trabalhadores :
10~99
Nível de certificação :
Verified Supplier
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