Bolacha de Sapphire Wafer Sapphire Windows Piezoelectric do semicondutor
A safira é um material de uma combinação original de propriedades físicas, químicas e óticas, que fazem resistente à erosão de choque de alta temperatura, térmico, da água e da areia, e de risco. É um material superior da janela para muitas aplicações do IR de 3µm a 5µm. as carcaças da safira do C-plano são amplamente utilizadas crescer compostos de III-V e de II-VI tais como GaN para o diodo emissor de luz e diodos láser azuis, quando as carcaças da safira do R-plano forem usadas para o depósito hetero-epitaxial do silicone para aplicações microeletrónicas de IC.
Artigo |
C-plano 3-inch (0001) 500μm Sapphire Wafers |
|
Crystal Materials |
99.999%, pureza alta, Al2O3 Monocrystalline |
|
Categoria |
Principal, Epi-pronto |
|
Orientação de superfície |
C-plano (0001) |
|
fora-ângulo do C-plano para a M-linha central 0,2 +/- 0.1° |
||
Diâmetro |
76,2 milímetro +/- 0,1 milímetros |
|
Espessura |
μm 500 +/- μm 25 |
|
Orientação lisa preliminar |
Um-plano (11-20) +/- 0.2° |
|
Comprimento liso preliminar |
22,0 milímetro +/- 1,0 milímetros |
|
Único lateral lustrado |
Front Surface |
Epi-lustrado, Ra < 0=""> |
(SSP) |
Superfície traseira |
Terra fina, Ra = 0,8 μm ao μm 1,2 |
Lateral dobro lustrado |
Front Surface |
Epi-lustrado, Ra < 0=""> |
(DSP) |
Superfície traseira |
Epi-lustrado, Ra < 0=""> |
TTV |
< 15=""> |
|
CURVA |
< 15=""> |
|
URDIDURA |
< 15=""> |
|
Limpeza/que empacota |
Limpeza da sala de limpeza da classe 100 e empacotamento de vácuo, |
|
25 partes em uma gaveta que empacota ou único que empacota da parte. |
Artigo |
C-plano 4-inch (0001) 650μm Sapphire Wafers |
|
Crystal Materials |
99.999%, pureza alta, Al2O3 Monocrystalline |
|
Categoria |
Principal, Epi-pronto |
|
Orientação de superfície |
C-plano (0001) |
|
fora-ângulo do C-plano para a M-linha central 0,2 +/- 0.1° |
||
Diâmetro |
100,0 milímetro +/- 0,1 milímetros |
|
Espessura |
μm 650 +/- μm 25 |
|
Orientação lisa preliminar |
Um-plano (11-20) +/- 0.2° |
|
Comprimento liso preliminar |
30,0 milímetro +/- 1,0 milímetros |
|
Único lateral lustrado |
Front Surface |
Epi-lustrado, Ra < 0=""> |
(SSP) |
Superfície traseira |
Terra fina, Ra = 0,8 μm ao μm 1,2 |
Lateral dobro lustrado |
Front Surface |
Epi-lustrado, Ra < 0=""> |
(DSP) |
Superfície traseira |
Epi-lustrado, Ra < 0=""> |
TTV |
< 20=""> |
|
CURVA |
< 20=""> |
|
URDIDURA |
< 20=""> |
|
Limpeza/que empacota |
Limpeza da sala de limpeza da classe 100 e empacotamento de vácuo, |
|
25 partes em uma gaveta que empacota ou único que empacota da parte. |
Artigo |
C-plano 6-inch (0001) 1300μm Sapphire Wafers |
|
Crystal Materials |
99.999%, pureza alta, Al2O3 Monocrystalline |
|
Categoria |
Principal, Epi-pronto |
|
Orientação de superfície |
C-plano (0001) |
|
fora-ângulo do C-plano para a M-linha central 0,2 +/- 0.1° |
||
Diâmetro |
150,0 milímetro +/- 0,2 milímetros |
|
Espessura |
μm 1300 +/- μm 25 |
|
Orientação lisa preliminar |
Um-plano (11-20) +/- 0.2° |
|
Comprimento liso preliminar |
47,0 milímetro +/- 1,0 milímetros |
|
Único lateral lustrado |
Front Surface |
Epi-lustrado, Ra < 0=""> |
(SSP) |
Superfície traseira |
Terra fina, Ra = 0,8 μm ao μm 1,2 |
Lateral dobro lustrado |
Front Surface |
Epi-lustrado, Ra < 0=""> |
(DSP) |
Superfície traseira |
Epi-lustrado, Ra < 0=""> |
TTV |
< 25=""> |
|
CURVA |
< 25=""> |
|
URDIDURA |
< 25=""> |
|
Limpeza/que empacota |
Limpeza da sala de limpeza da classe 100 e empacotamento de vácuo, |
|
25 partes em uma gaveta que empacota ou único que empacota da parte. |
Verificação de aceitação