| De prata | 3N5 ~ 5N | Cobre | 3N5 ~ 6N | Níquel | 2N5 ~ 5N | Bismuto | 4N~5N |
| Alumínio | 4N~6N | Disprósio | 3N~4N | Ósmio | 3N5 | Samário | 3N5 |
| Ouro | 4N~5N | Erbium | 3N~4N | Plomo | 3N | Ácido acético | 4N~5N |
| Magnésio | 3N5~4N | Európio | 3N~4N | Palladio | 3N5 | Irdio | 3N5 |
| Vanádio | 3N5~4N | Ferro | 3N~4N | Platina | 3N5~4N | Lantânio | 3N5 |
| Bismuto | 4N~5N | Gállio | 4N~5N | Reínio | 3N5 | lutécio | 3N~4N |
| Tungstênio | 3N5 ~ 5N | Gadolimínio | 3N~4N | Rodíum | 3N5 | Manganês | 3N5~4N |
| Cálcio | 3N | Germânio | 3N ~ 5N | Ruthenium | 3N5 | Molibédio | 3N5~4N |
| Cério | 3n~4N | Ácidos graxos | 3N~4N | Antimônio | 3N5 | Titânio | 2N5 ~ 5N |
| Cobalto | 3N~4N | Nióbio | 3N5 ~ 4N5 | Óleo de potássio | 3N5~4N | Itérbio | 3N5 |
| Cloreto de sódio | 2N5 ~ 3N5 | Neodímio | 2N5 ~ 3N5 | Selênio | 3N5~4N | Telouro | 4N~5N |
Pelotas de titânio, partículas de pureza 4N Dia3x3mm 3x6mm used emRevestimento por evaporação, used emprocessos de deposição, incluindo a deposição de semicondutores, a deposição química de vapor (CVD) e a deposição física de vapor (PVD),de peso não superior a 20 g/m2, mas não superior a 150 g/m2,.