Especificações
Number modelo :
Moly Ion Implanting Parts
Lugar de origem :
China
MOQ :
15 quilogramas
Termos do pagamento :
L/C, T/T, D/P, Western Union
Capacidade da fonte :
2000 quilogramas pelo mês
Prazo de entrega :
15-20 dias
Detalhes de empacotamento :
caixas da madeira compensada
Nome do produto :
Moly Ion Implanting Parts
Categoria :
Mo1
Densidade :
10,2 G/cm3
pureza :
>=99.95%
Resistência à tração :
>MPa 325
Alongamento :
<21>
Padrão :
ASTM B387-01
aplicação :
Indústria do semicondutor
Descrição

Aplicação Alto-pura de Moly Ion Implanting Parts In Semiconductor

Moly Ion Implanting Parts é uma tecnologia do feixe de íon que ionize os átomos de um elemento em íons, os acelere em uma tensão dos dez às centenas de quilovolt, e o injete na superfície do material do workpiece colocada na câmara do alvo do vácuo após ter obtido a alta velocidade.

 

Após a implantação de íon, as propriedades do exame, as químicas e as mecânicas da superfície do material mudarão significativamente. A resistência de desgaste contínua da superfície de metal pode alcançar 2 ~ 3 ordens de grandeza da profundidade inicial da implantação.

 

 

ESPECIFICAÇÃO & COMPOSIÇÕES QUIMICAS (SUBSTANTIVOS)

Material Tipo Composição quimica (por peso)
Moly puro Mo1 >99.95%min. Mo
Liga Si-Zr-Mo TZM Zr do si de 0,5%/0,08%/0,01 - 0,04% C
Mo-Hf-c MHC Hf de 1,2%/0,05 - 0,12% C
Rênio de Moly Mais 5,0% re
Tungstênio de Moly MoW20 20,0% W
Tungstênio de Moly MoW50 50,0% W

 

 

 

 

 

 

Vantagens da tecnologia de Moly Ion Implanting Parts:


(1) é uma tecnologia não poluída pura do tratamento de superfície;


(2) não precisa a ativação térmica e o ambiente de alta temperatura, assim que não mudará a dimensão total e o revestimento de superfície do workpiece;


(3) camadas da implantação de íon são uma camada de superfície nova formada por uma série de interações físicas e químicas entre o feixe de íon e a superfície da carcaça, e não há nenhum problema de descascamento entre ele e a carcaça;


(4) não há nenhuma necessidade para fazer à máquina e tratamento térmico após a implantação de íon.

 

Moly Ion Implanting Parts Picture:
Aplicação pura alta de Ion Implanting Parts In Semiconductor dos produtos do molibdênioAplicação pura alta de Ion Implanting Parts In Semiconductor dos produtos do molibdênioAplicação pura alta de Ion Implanting Parts In Semiconductor dos produtos do molibdênio

APLICAÇÕES de Moly Ion Implanting Parts

Na tecnologia de semicondutor, a implantação de íon tem a uniformidade e a repetibilidade da dose da elevada precisão. Pode obter a concentração e a integração de lubrificação ideais, para melhorar extremamente a integração, a velocidade, o rendimento e a vida útil do circuito, e reduz o consumo do custo e da potência. Isto é diferente do depósito de vapor químico.

 

A fim obter parâmetros ideais, tais como a espessura de filme e a densidade, o depósito de vapor químico precisa de ajustar o equipamento que ajusta parâmetros, tais como a temperatura e o caudal do ar, que é um processo complexo.

 

Além do que a indústria da produção do semicondutor, com o desenvolvimento rápido da automatização de controle industrial, a tecnologia da implantação de íon é igualmente amplamente utilizada na melhoria dos metais, da cerâmica, do vidro, dos compostos, dos polímeros, dos minerais e das sementes da planta.

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Capacidade da fonte :
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Prazo de entrega :
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