Descrição do produto

A implantação de íon é uma tecnologia muito importante na fabricação moderna de IC, que usa implanters do íon para lubrificar semicondutores, isto é, usando fios do tungstênio-tório como cátodos para emitir-se elétrons para bombardear as moléculas do gás que contêm elementos específicos da impureza, tendo por resultado os átomos específicos ionizados da impureza acelerados por campos eletrostáticos na superfície de únicas bolachas de cristal do silicone e no semicondutor, mudando as propriedades condutoras e formando eventualmente estruturas do transistor. O injetor do íon consiste em um sistema de gás, em um sistema do vácuo, em um sistema do motor, em um sistema de controlo, e em um sistema do beamline.

O sistema do beamline inclui a fonte de íon, o elétrodo da extração, o espectrómetro maciço, o acelerador no final do processo, o sistema da neutralização da carga, o alimentador da bolacha, e o construtor do feixe. Os dispositivos do tungstênio fizeram das placas grossas do tungstênio (2~45 milímetros) são usados principalmente no sistema da fonte de íon de implanters do íon do semicondutor para limitar e proteger raios de ionização, e são os componentes-chave do sistema da fonte de íon.

O processo de processamento de dispositivos do tungstênio da elevada precisão para a implantação de íon do semicondutor é → do pó do tungstênio que pressiona o tratamento térmico de rolamento do → do → da aglomeração do → de fazer à máquina do → do corte do fio do → dos produto acabados.

Características:

A pureza do medidor de ondas do molibdênio está acima de 99,95%;
Sua densidade é mais alta do ³ de 10,2 g/cm;
Feito à máquina precisamente e com aspereza de superfície excelente;

O medidor de ondas do molibdênio é da resistência de desgaste forte.

Detalhe do produto

Empacotamento & entrega:

Indústria da aplicação

Indústria dos materiais do semicondutor
Indústria do transporte marinho
Indústria ótica e optoelectronic
Indústria aeroespacial