Componentes do molibdênio para as peças de Ion Implanters For Custom Machined
Descrição do produto
A implantação de íon é uma tecnologia muito importante na fabricação moderna do circuito integrado, que usa máquinas da implantação de íon para conseguir a lubrificação dos semicondutores, usando fios de tungstênio como cátodos para se emitir elétrons para bombardear as moléculas do gás que contêm elementos específicos da impureza, tendo por resultado os átomos específicos ionizados da impureza acelerados por campos eletrostáticos para bater a superfície de únicas bolachas de cristal do silicone e no interior do semicondutor, mudando as propriedades condutoras e * eventualmente formar estruturas do transistor.
Por causa da conversão da fonte de íon no plasma os íons produzirão uma temperatura de funcionamento de mais do que 2000°C, a erupção do feixe de íon
igualmente gerará uma quantidade maior de energia cinética do íon, o metal geral queimará rapidamente o derretimento, assim que a necessidade para o metal inerte com densidade maciça alta de manter o sentido da erupção do feixe de íon e de aumentar a durabilidade dos componentes, molibdênio do tungstênio é da importância.
Os materiais usados nas peças do molibdênio da implantação de íon são aperfeiçoados para processos materiais tradicionais do tungstênio e do molibdênio, incluindo a cristalização fina, tratamento de liga, aglomeração do vácuo e densification isostatic quente da aglomeração, refinamento de grão secundário e rolamento controlado
tecnologia, melhorando geralmente a vida, resistência de alta temperatura e para rastejar resistência do tungstênio e de materiais tradicionais do molibdênio.
Molibdênio ASTM B387
Exigências TABLE1 químicas | ||||||
Elemento | Composição, % | |||||
Número material | ||||||
360 | 361 | 363 | 364 | 365 | 366 | |
C | 0.030max | 0.010max | 0.010-0.030 | 0.010-0.040 | 0.010max | 0.030max |
O, MAXA | 0,0015 | 0,0070 | 0,0030 | 0,030 | 0,0015 | 0,0025 |
N, MAXA | 0,002 | 0,002 | 0,002 | 0,002 | 0,002 | 0,002 |
Fe, max | 0,010 | 0,010 | 0,010 | 0,010 | 0,010 | 0,010 |
Ni, max | 0,002 | 0,005 | 0,002 | 0,005 | 0,002 | 0,002 |
Si, max | 0,010 | 0,010 | 0,010 | 0,005 | 0,010 | 0,010 |
Si | … | … | 0.40-0.55 | 0.40-0.55 | … | … |
W | … | … | … | … | … | 27-33 |
Zr | … | … | 0.06-0.12 | 0.06-0.12 | … | … |
Mo | equilíbrio | equilíbrio | equilíbrio | equilíbrio | equilíbrio | equilíbrio |
Métodos de análise aprovados pendentes, desvios sahll destes limites apenas para não ser causa para a rejeção.
Variações TABLE2 permissíveis na análise da verificação | |||
Material NÃO. | Limites da análise da verificação, máximo ou escala, % | Variações permissíveis na análise da verificação, % | |
C | 360, 363, 364, 366, 361, 365 | 0.010-0.040 0,010 |
±0.005 ±0.002 |
OA | 361 360, 363, 365, 366 364 | 0,0070 0,0030 0,030 | + parente de 10% + parente de 10% + parente de 10% |
NA | 361, 364, 365 360, 363, 366 | 0,0020 0,0010 | +0,0005 +0,0005 |
Fe | 360, 361, 363, 364, 365, 366 | 0,010 | +0,001 |
Ni | 360, 361, 363, 364, 365, 366 | 0,005 | +0,0005 |
Si | 360, 361, 363, 364, 365, 366 | 0,010 | +0,002 |
Si | 363, 364 | 0.40-0.55 | ± 0,05 |
W | 366 | 27.0-33.0 | ±1.0 |
Zr | 363.364 | 0.06-0.12 | ±0.02 |