Magnetron Sputtering é amplamente utilizado para depositar metais refratários como tântalo, titânio, tungstênio,Nióbio, que exigiria temperaturas de deposição muito elevadas, e metais preciosos: Ouro e Prata e que também é usado para a deposição de metais com baixos pontos de fusão como cobre, alumínio, níquel, cromo, etc.

O tântalo é mais utilizado na electrónicaIndústriacomo revestimento protetor devido à sua boa resistência à erosão.

Aplicações da película fina de tântalo pulverizado:
1- indústria da microelectrónica, uma vez que as películas podem ser pulverizadas reactivamente e, assim, a resistividade e o coeficiente de temperatura da resistência podem ser controlados;

2. Instrumentos médicos como implantes corporais pela sua elevada propriedade de biocompatibilidade;
3. Revestimentos em partes resistentes à corrosão, tais como termo-poços, corpos de válvulas e elementos de fixação;
4. O tântalo pulverizado pode também ser utilizado como uma barreira eficaz de resistência à corrosão se o revestimento for contínuo, defeituoso e aderente ao substrato..

Vantagens técnicas

1. Aplica-se um carrinho normalizado que permite o carregamento/descarregamento fácil e seguro dos suportes de substrato e das peças de trabalho dentro/fora da câmara de deposição
2. O sistema está bloqueado de segurança para evitar uma operação incorreta ou práticas inseguras
3. Os aquecedores de substrato são fornecidos que montados no centro da câmara, PID controlado termocouple para alta precisão, para melhorar a adesão do filme de condensação
4. Configurações de bombas de vácuo fortes com bomba molecular de suspensão magnética através de uma válvula de porta conectada à câmara; apoiada com bomba de raízes da Leybold e bomba de veleira rotativa de dois estágios, bomba mecânica.
5. A fonte de plasma ionizado de alta energia é aplicada com este sistema para garantir a uniformidade e a densidade.
   
   
   

Sistema padronizado de deposição por pulverização de Tântalo da Royal Technology:

Insite:

Tempo de construção: 2018

Local: China

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