A prata de revestimento direto PVD em filtros dielétricos cerâmicos é uma tecnologia de revestimento avançada aplicada com estações base 5G e outros semicondutores para indústrias eletrônicas.Uma aplicação típica é o Substrato Radiante CerâmicoDeposição de película condutora de prata/cobre em óxido de alumínio (Al2O3), substratos de AlN por tecnologia de pulverização a vácuo PVD,tem sobretudo uma grande vantagem em relação aos métodos de fabrico tradicionais: DBC LTCC HTCC, que tem custos de produção muito mais baixos. Royal Technology’s team collaborated with our customer to develop the PVD Silver Plating process successfully applying  with  sputtering technology which can replace conventional liquid silver brushing process.

Aplicações típicas

• HBLED
• Substrato para células de concentradores solares
• Outros aparelhos e aparelhos para a produção de partículas
• Eletrónica de gestão de energia de automóveis híbridos e eléctricos
• Pacotes para RF
• Dispositivos de microondas
• Filtros dielétricos cerâmicos paraEstação base 5G

Só para citar alguns, para mais aplicações, por favor contacte a Royal Tech.

Vantagens técnicas

Grande capacidade
Projeto de módulos flexíveis
Fabricação de precisão

O sistema RTAS1215 batch Sputtering é a versão atualizada, o mais novo sistema tem várias vantagens:

Processo mais eficiente
1- O revestimento de dois lados está disponível pelo projeto de fixação de rotação
2Até 8 flanges de cátodo planos padrão para fontes múltiplas
3. Grande capacidade de até 2,2 m2 de chips cerâmicos por ciclo
4. Totalmente automático, PLC + Touch Screen, sistema de controlo ONE-touch

Baixo Custo de Produção
1Equipado com 2 conjuntos de bombas moleculares de suspensão magnética, tempo de arranque rápido, manutenção gratuita
2Potência máxima de aquecimento
3- Forma octogonal da câmara para utilização óptima do espaço, até 8 fontes de arco e 4 cátodos de pulverização para deposição rápida de revestimentos

Especificações técnicas

Modelo: RTSP1200-DPC

Altura da câmara (mm): 1500

Diâmetro da câmara (mm): φ1200

Flanca de montagem de catodos de pulverização: 4

Flange de montagem da fonte de íons: 1

Arco catódico de montagem de flange: 8

Satélites (mm): 16 x Φ150

Potência de desvio pulsado (KW): 36

Potência de pulverização (KW): DC36 + MF36

Potência de arco ((KW): 8 x 5

Potência da fonte iônica (KW): 5

Potência de aquecimento (KW): 36

Altura efetiva do revestimento (mm): 1020

Bomba molecular de suspensão magnética: 2 x 3300 L/S

Bomba de raízes: 1 x 1000 m3/h

Bomba de válvula rotativa: 1 x 300 m3/h

Bomba de retenção: 1 x 60 m3/h

Capacidade: 2,2 m2

Área de instalação (L x L x H) mm: 4200*6000*3500

Insite

Tempo construído: desde 2016

Quantidade: 3 conjuntos

Local: China

Em comparação com a enorme procura do mercado, a produtividade do sistema por lotes é baixa;Temos dedicado o desenvolvimento do sistema de pulverização em linha (continua a linha de deposição de pulverização) com dispositivos de carregamento / descarregamento automático robóticoQualquer pessoa interessada neste sistema, por favor contacte o nosso técnico para mais especificações.