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6 × 6 × 0,12 polegadas MEMS Chrome Photomask Substrato Revestimento fotorresistente
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Especificações
Número do modelo :
6012
Lugar de origem :
Chengdu, PR CHINA
Quantidade Mínima de Pedido :
1PCS
Termos de pagamento :
T/T
capacidade de fornecimento :
Caso a caso
Tempo de entrega :
Caso a caso
Detalhes da embalagem :
caixa de madeira
Material :
Quartzo
Termos de envio :
FEDEX, DHL, EMS, TNT, etc
Formulários :
processo de fotolitografia, fabricação de chip de circuito integrado, FPD, MEMS
Capacidade de processamento :
Moagem, polimento, cromagem, colagem
Descrição

6 polegadas × 6 polegadas × 0,12 polegadas Substrato de fotomáscara de quartzo para uso em chip

Formulários

Os campos do processo de fotolitografia, como fabricação de chips de circuito integrado, FPD (Flat Panel Display),

MEMS (Sistemas Micro Eletromecânicos), etc.

Princípio de trabalho

A máscara é uma máscara mestre gráfica comumente usada em fotolitografia de fabricação micro-nano.A estrutura gráfica

é formado em um substrato transparente por uma fotomáscara opaca e, em seguida, a informação gráfica é transferida para o

substrato do produto através de um processo de exposição.

Características

Substrato de fotomáscara para uso de chip

Modelo / Material Tamanho Capacidade de processamento
6012 / Quartzo 6 polegadas × 6 polegadas × 0,12 polegadas Moagem, polimento, cromagem, colagem

Fluxo de processo

→ Detecção de matérias-primas;

→ Desbaste grosseiro;

→ Polimento grosseiro;

→ Limpeza da máscara;

→ Inspeção de desempenho de matérias-primas;

→ Cromado;

→ Teste de desempenho da máscara;

→ Revestimento fotorresistente;

→ Embalagens;

→ Transporte.

Nossas vantagens

Nós somos fabricante.

Processo maduro.

Resposta dentro de 24 horas úteis.

Nossa Certificação ISO

6 × 6 × 0,12 polegadas MEMS Chrome Photomask Substrato Revestimento fotorresistente

Partes de nossas patentes

6 × 6 × 0,12 polegadas MEMS Chrome Photomask Substrato Revestimento fotorresistente6 × 6 × 0,12 polegadas MEMS Chrome Photomask Substrato Revestimento fotorresistente

Partes de nossos prêmios e qualificações de P&D

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6 × 6 × 0,12 polegadas MEMS Chrome Photomask Substrato Revestimento fotorresistente

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Detalhes do produto
Número do modelo :
6012
Lugar de origem :
Chengdu, PR CHINA
Quantidade Mínima de Pedido :
1PCS
Termos de pagamento :
T/T
capacidade de fornecimento :
Caso a caso
Tempo de entrega :
Caso a caso
Fornecedor de contacto
6 × 6 × 0,12 polegadas MEMS Chrome Photomask Substrato Revestimento fotorresistente
6 × 6 × 0,12 polegadas MEMS Chrome Photomask Substrato Revestimento fotorresistente

ZEIT Group

Active Member
4 Anos
sichuan, chengdu
Desde 2018
Tipo de empresa :
Manufacturer, Exporter, Seller
Produtos principais :
, ,
Total Anual :
＄10,000,000-＄15,000,000
Número de trabalhadores :
120~200
Nível de certificação :
Active Member
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