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Substrato de fotomáscara de quartzo de polimento de moagem para uso de FPD e cavacos
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Especificações
Número do modelo :
x
Lugar de origem :
Chengdu, PR CHINA
Quantidade Mínima de Pedido :
1PCS
Termos de pagamento :
T/T
capacidade de fornecimento :
Caso a caso
Tempo de entrega :
Caso a caso
Detalhes da embalagem :
caixa de madeira
Material :
Quartzo
Termos de envio :
FEDEX, DHL, EMS, TNT, etc
Tipo :
ZEIT
Origem :
Chengdu, PR CHINA
Descrição

Carcaça do Photomask de quartzo para FPD e Chip Use

 

 

Área de aplicação

Os campos do processo da fotolitografia, tais como a fabricação da microplaqueta do circuito integrado, FPD (tela plano),

MEMS (micro eletro sistemas mecânicos), etc.

 

Princípio de funcionamento

A máscara é uma máscara mestra gráfica de uso geral na fotolitografia da fabricação micro-nano. A estrutura gráfica

é formado em uma carcaça transparente por um photomask opaco, e a informação gráfica é transferida então ao

carcaça do produto com um processo da exposição.

 

Características

Carcaça do Photomask para o uso de FPD

Modelo/material Tamanho Capacidade de processamento
5280 / Quartzo × 520mm de 800mm Moedura, lustrando, chapeamento de Chrome, colando
3035 / Quartzo × 300mm de 350mm Moedura, lustrando, chapeamento de Chrome, colando
6 polegadas/quartzo × 152mm de 152mm Moedura, lustrando, chapeamento de Chrome, colando
5 polegadas/quartzo × 127mm de 127mm Moedura, lustrando, chapeamento de Chrome, colando

 

Carcaça do Photomask para o uso da microplaqueta

Modelo/material Tamanho Capacidade de processamento
5009 / Quartzo 5 polegadas de × 5 polegadas de × 0,09 polegadas Moedura, lustrando, chapeamento de Chrome, colando
6012 / Quartzo 6 polegadas de × 6 polegadas de × 0,12 polegadas Moedura, lustrando, chapeamento de Chrome, colando
6025 / Quartzo 6 polegadas de × do × 6inches 0,25 polegadas Moedura, lustrando, chapeamento de Chrome, colando

 

 

 

 

 

 

 

Fluxo de processo

Detecção das matérias primas do →

Moedura áspera do →

Lustro áspero do →

Limpeza da máscara do →

Inspeção do desempenho das matérias primas do →

O → chapeou pelo cromo

Testes de desempenho da máscara do →

Revestimento do fotoresistente do →

Empacotamento do →

Transporte do →

 

Nossas vantagens

Nós somos fabricante.

Processo maduro.

Resposta dentro de 24 horários laborais.

 

Nossa certificação do ISO

Substrato de fotomáscara de quartzo de polimento de moagem para uso de FPD e cavacos

 

 

Partes de nossas patentes
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Partes de nossas concessões e qualificações do R&D

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Quantidade Mínima de Pedido :
1PCS
Termos de pagamento :
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capacidade de fornecimento :
Caso a caso
Tempo de entrega :
Caso a caso
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ZEIT Group

Active Member
4 Anos
sichuan, chengdu
Desde 2018
Tipo de empresa :
Manufacturer, Exporter, Seller
Produtos principais :
, ,
Total Anual :
＄10,000,000-＄15,000,000
Número de trabalhadores :
120~200
Nível de certificação :
Active Member
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