Especificações
Número do modelo :
3035
Lugar de origem :
Chengdu, PR CHINA
Quantidade Mínima de Pedido :
1PCS
Termos de pagamento :
T/T
capacidade de fornecimento :
Caso a caso
Tempo de entrega :
Caso a caso
Detalhes da embalagem :
caixa de madeira
Material :
Quartzo
TERMOS DE ENVIO :
FEDEX, DHL, EMS, TNT, etc
Descrição

do de quartzo do × 300mm 350mm para o uso de FPD

 

 

Aplicações

Os campos do processo da fotolitografia, tais como a fabricação da microplaqueta do circuito integrado, FPD (tela plano),

MEMS (micro eletro sistemas mecânicos), etc.

 

Princípio de funcionamento

A máscara é uma máscara mestra gráfica de uso geral na fotolitografia da fabricação micro-nano. A estrutura gráfica

é formado em uma carcaça transparente por um photomask opaco, e a informação gráfica é transferida então ao

carcaça do produto com um processo da exposição.

 

Características

para o uso de FPD

Modelo/material Tamanho Capacidade de processamento
3035 / Quartzo × 300mm de 350mm Moedura, lustrando, chapeamento de Chrome, colando

                                                                 

Fluxo de processo

Detecção das matérias primas do →;

Moedura áspera do →;

Lustro áspero do →;

Limpeza da máscara do →;

Inspeção do desempenho das matérias primas do →;

O → chapeou pelo cromo;

Testes de desempenho da máscara do →;

Revestimento do fotoresistente do →;

Empacotamento do →;

Transporte do →.

 

Nossas vantagens

Nós somos fabricante.

Processo maduro.

Resposta dentro de 24 horários laborais.

 

Nossa certificação do ISO

Substrato fotomáscara de quartzo 350 × 300 mm para fabricação de chip de circuito integrado

 

 

Partes de nossas patentes

Substrato fotomáscara de quartzo 350 × 300 mm para fabricação de chip de circuito integradoSubstrato fotomáscara de quartzo 350 × 300 mm para fabricação de chip de circuito integrado

 

 

Partes de nossas concessões e qualificações do R&D

Substrato fotomáscara de quartzo 350 × 300 mm para fabricação de chip de circuito integradoSubstrato fotomáscara de quartzo 350 × 300 mm para fabricação de chip de circuito integrado

 

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Substrato fotomáscara de quartzo 350 × 300 mm para fabricação de chip de circuito integrado

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Lugar de origem :
Chengdu, PR CHINA
Quantidade Mínima de Pedido :
1PCS
Termos de pagamento :
T/T
capacidade de fornecimento :
Caso a caso
Tempo de entrega :
Caso a caso
Fornecedor de contacto
Substrato fotomáscara de quartzo 350 × 300 mm para fabricação de chip de circuito integrado
Substrato fotomáscara de quartzo 350 × 300 mm para fabricação de chip de circuito integrado

ZEIT Group

Active Member
4 Anos
sichuan, chengdu
Desde 2018
Tipo de empresa :
Manufacturer, Exporter, Seller
Produtos principais :
, ,
Total Anual :
$10,000,000-$15,000,000
Número de trabalhadores :
120~200
Nível de certificação :
Active Member
Fornecedor de contacto
Exigência de submissão