EPI-WAFERS GAN-ON-SI de 8 polegadas, 12 polegadas, 6 polegadas para aplicação de micro-LED RF

8 polegadas 100mm 150mm 200mm 300mm GAN-ON-SI EPI-WAFERS para aplicação de energia

Wafer epitaxial GaN (GaN EPI em Silício)
O nitreto de gálio (GaN) tem sido amplamente usado em dispositivos de energia e diodos emissores de luz azul devido à sua grande lacuna de energia.

Introdução
Para responder a estas necessidades, a Comissão propõe a criação de uma base de dados para a avaliação dos custos de produção.Desenvolvemos um substrato semicondutor de banda larga com nitruro de gálio (GaN) como material semicondutor de próxima geração.
Conceito: Ao cultivar filmes finos de GaN de cristal único em substratos de silício, podemos produzir substratos de semicondutores grandes e baratos para dispositivos de próxima geração

.
Alvo: Para aparelhos domésticos: interruptores e inversores com tensões de ruptura nas centenas.
Vantagens: Os nossos substratos de silício são mais baratos para cultivar GaN do que outros substratos de carburo de silício ou safira, e podemos fornecer dispositivos de GaN adaptados aos requisitos do cliente.

Glossário
Espaço de banda larga
Band gap refers to the energy field formed by the band structure in a crystal that does not contain electrons (semiconductor materials with a band gap larger than silicon are often referred to as wide band gap semiconductors)Material de banda larga com boa transparência óptica e alta tensão de ruptura elétrica

Heterojunção
Em termos gerais, no campo dos semicondutores, são empilhados filmes relativamente finos de materiais semicondutores de diferentes composições.No caso dos cristais mistos, são obtidas heterojunções com interfaces atomicamente suaves e boas propriedades de interface.

Especificação do produto

Elementos Valores/Ámbito de aplicação

Substrato Si

Diâmetro da bolacha 100 mm, 150 mm, 200 mm, 300 mm

Espessura da camada epi 2-7 μm

Arco de wafer < 30 μm, típico

Morfologia da superfície RMS < 0,5 nm em 5×5 μm2

Barreira AlXGa1-XN, 0

Cap layer In-situ SiN ou GaN (modo D); p-GaN (modo E)

2DEG densidade > 9E12/cm2 (20nm Al0,25GaN, 150mm)

Mobilidade dos elétrons > 1800 cm2 /Vs (20nm Al0,25GaN, 150mm)

FEspecificações dos Wafers Epi de aplicação de RF GaN-on-SiAplicaçãoems Valores/Ámbito de aplicação

Substrato HR_Si / SiC

Diâmetro da bolacha 100 mm, 150 mm para SiC,

100 mm, 150 mm, 200 mm para HR_Si

Espessura da camada epi 2-3 μm

Arco de wafer < 30 μm, típico

Morfologia da superfície RMS < 0,5 nm em 5×5 μm2

Barreira AlGaN ou AlN ou InAlN

Camada de cap In situ SiN ou GaN

• Todos os membros da equipa técnica têm mais de 10 anos de experiência em GaN

Capacidade

• Sala limpa de classe 1000 de 3300 m2

• 200 mil peças/ano para epiwafers de 150 mm GaN

Produto

Diversidade

• GaN-on-Si (até 300 mm)

• GaN-on-SiC (até 150 mm)

• GaN-on-HR_Si (até 200 mm)

• GaN-on-Sapphire (até 150 mm)

• GaN sobre GaN

IP & Qualidade • ~400 patentes registadas na China, EUA, Japão, etc.

com > 100 concedidos

• Licença de 80 patentes da imec

• Certificado ISO9001:2015 para conceção e

Fabricação de material de GaN epi

Perguntas frequentes:

Q: Qual é o seu MOQ?

R: (1) Para inventário, o MOQ é de 1pcs.

(2) Para produtos personalizados, o MOQ é de 5pcs.

P: Qual é a forma de envio e custo?

A: ((1) Aceitamos DHL, Fedex, EMS etc.

(2) Se você tem sua própria conta expressa, é ótimo. Se não, podemos ajudá-lo a enviá-los.

O frete está de acordo com a liquidação real.

P: Qual é o prazo de entrega?

Para o inventário: a entrega é de 5 dias úteis após a sua encomenda.

Para produtos personalizados: a entrega é de 2 ou 3 semanas após a sua encomenda.

P: Tem produtos padrão?

R: Os nossos produtos normais em estoque. como 4 polegadas 0,65mm,0Wafer polido de.5mm.

P: Como pagar?

A: 50% de depósito, deixado antes da entrega T/T,

P: Posso personalizar os produtos com base nas minhas necessidades?

R: Sim, podemos personalizar o material, especificações e revestimento óptico para o seu óptico

componentes com base nas suas necessidades.