2 polegadas 4 polegadas GaN-on Sapphire Blue/Green LED Wafer Flat ou PPS Sapphire MOCVD DSP SSP
Os Wafers GaN on Sapphire (GaN/Sapphire) referem-se a um material de substrato composto por um substrato de safira com uma camada de nitreto de gálio (GaN) cultivada em cima.O GaN é um material semicondutor utilizado na fabricação de dispositivos eletrônicos de alta potência e alta frequência, tais como diodos emissores de luz (LED), diodos laser e transistores de alta mobilidade eletrônica (HEMT).tornando-o um substrato adequado para o crescimento de GaNOs Wafers GaN on Sapphire são amplamente utilizados no fabrico de dispositivos optoeletrônicos, dispositivos de microondas e de ondas milimétricas e dispositivos eletrônicos de alta potência.
Estrutura e composição:
Nitreto de gálio (GaN) Camada epitaxial:
Película fina de cristal único: a camada GaN é uma película fina de cristal único, garantindo alta pureza e excelente qualidade cristalina.O valor do valor do produto deve ser calculado em conformidade com o modelo de referência..
Características do material: O GaN é conhecido por sua ampla faixa de frequência (3,4 eV), alta mobilidade eletrônica e alta condutividade térmica.Estas propriedades tornam-no altamente adequado para aplicações de alta potência e alta frequência, bem como dispositivos que operam em ambientes adversos.
Substrato de safira:
Resistência mecânica: o zafiro (Al2O3) é um material robusto com resistência mecânica excepcional, proporcionando uma base estável e durável para a camada de GaN.
Estabilidade térmica: o safiro apresenta um excelente desempenho térmico, incluindo uma elevada condutividade térmica e estabilidade térmica,Ajudando a dissipar o calor gerado durante o funcionamento do dispositivo e a manter a integridade do dispositivo a altas temperaturas.
Transparência óptica: A transparência do safiro na faixa ultravioleta a infravermelha o torna adequado para aplicações optoeletrônicas,com um diâmetro superior a 30 mm,.
Tipos de modelos de GaN no Sapphire:
Nitreto de gálio de tipo n
Tipo p
Tipo de semi-isolação
Os micro-LEDs são considerados uma tecnologia chave para a plataforma metaverso para permitir exibições de próxima geração para realidade aumentada (AR), realidade virtual (VR), telefones celulares e relógios inteligentes.
Podemos oferecer GaN baseado em vermelho, verde, azul, ou UV LED Epitaxial Wafers, bem como outros. O substrato pode ser safira, SiC, Silício e Bulk GaN Substrate. o tamanho está disponível de 2 polegadas a 4 polegadas
1P: Por que o GaN está no safiro?
R: O uso de substratos de safira permite tampões de GaN mais finos e estruturas de epitaxia mais simples, devido ao crescimento de maior qualidade, em relação ao material cultivado no silício.O substrato de safira também é mais elétrico do que o silício, o que deverá permitir a capacidade de bloqueio de kilovolts.
2.P: Quais são as vantagens do GaN LED?
R: Economização substancial dos custos energéticos. Os sistemas de iluminação tradicionais, como as lâmpadas incandescentes ou fluorescentes, são muitas vezes energéticos e podem contribuir para um aumento dos gastos energéticos.A iluminação LED baseada em GaN é altamente eficiente e consome muito menos energia, proporcionando uma iluminação superior.
1. 8 polegadas GaN-on-Si Epitaxy Si Substrate RF