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Membrana de Separação Filtração de Campo Deposição de Camada Atômica Máquina ALD
Membrana de Separação Filtração de Campo Deposição de Camada Atômica Máquina ALD
Especificações
Número do modelo :
ALD-SM-X—X
Lugar de origem :
Chengdu, PR CHINA
Quantidade Mínima de Pedido :
break
Termos de pagamento :
T/T
capacidade de fornecimento :
Caso a caso
Tempo de entrega :
Caso a caso
Detalhes da embalagem :
caixa de madeira
Peso :
Customizável
Tamanho :
Customizável
Periodo de garantia :
1 ano ou caso a caso
Customizável :
Disponível
Termos de envio :
Marítimo / Aéreo / Transporte Multimodal
Descrição

Deposição de Camada Atômica em Campo de Membrana de Separação

Formulários

Formulários Propósito específico
Membrana de separação

Filtração
Separação de gás

Princípio de trabalho
A deposição de camada atômica (ALD) tem as seguintes vantagens devido à quimissorção de saturação da superfície e

Mecanismo de reação autolimitante:
1. Controle com precisão a espessura do filme controlando os números de ciclo;
2. Devido ao mecanismo de saturação da superfície, não há necessidade de controlar a uniformidade do fluxo do precursor;
3. Películas altamente uniformes podem ser geradas;
4. Excelente cobertura de degraus com alta relação de aspecto.

Características

Modelo ALD-SM-X—X
Sistema de filme de revestimento AL2O3,TiO2,ZnO, etc
Faixa de temperatura do revestimento Temperatura normal a 500 ℃ (personalizável)
Tamanho da câmara de vácuo de revestimento

Diâmetro interno: 1200mm, Altura: 500mm (Personalizável)
Estrutura da câmara de vácuo De acordo com os requisitos do cliente
vácuo de fundo <5×10-7mbar
Espessura do revestimento ≥0,15nm
Precisão do controle de espessura ±0,1nm
Tamanho do revestimento 200×200mm² / 400×400mm² / 1200×1200 mm², etc.
Uniformidade da espessura do filme ≤±0,5%
Gás precursor e carreador

Trimetilalumínio, tetracloreto de titânio, dietil zinco, água pura,

nitrogênio, etc
Nota: Produção personalizada disponível.

Amostras de Revestimento

Membrana de Separação Filtração de Campo Deposição de Camada Atômica Máquina ALDMembrana de Separação Filtração de Campo Deposição de Camada Atômica Máquina ALD

Etapas do processo
→ Colocar o substrato para revestimento na câmara de vácuo;
→ Aspire a câmara de vácuo em alta e baixa temperatura e gire o substrato de forma síncrona;
→ Revestimento inicial: o substrato é contatado com o precursor em sequência e sem reação simultânea;
→ Purgar com gás nitrogênio de alta pureza após cada reação;
→ Pare de girar o substrato depois que a espessura do filme atingir o padrão e a operação de purga e resfriamento for

concluída e, em seguida, retire o substrato depois que as condições de quebra de vácuo forem atendidas.

Nossas vantagens

Nós somos fabricante.

Processo maduro.

Resposta dentro de 24 horas úteis.

Nossa Certificação ISO

Membrana de Separação Filtração de Campo Deposição de Camada Atômica Máquina ALD

Partes de nossas patentes

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Partes de nossos prêmios e qualificações de P&D

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Detalhes do produto
Número do modelo :
ALD-SM-X—X
Lugar de origem :
Chengdu, PR CHINA
Quantidade Mínima de Pedido :
break
Termos de pagamento :
T/T
capacidade de fornecimento :
Caso a caso
Tempo de entrega :
Caso a caso
Fornecedor de contacto
vídeo
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ZEIT Group

Active Member
4 Anos
sichuan, chengdu
Desde 2018
Tipo de empresa :
Manufacturer, Exporter, Seller
Produtos principais :
, ,
Total Anual :
＄10,000,000-＄15,000,000
Número de trabalhadores :
120~200
Nível de certificação :
Active Member
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