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Equipamento de deposição de camada atômica AL2O3 para indústria de padrão de nanoestrutura
Equipamento de deposição de camada atômica AL2O3 para indústria de padrão de nanoestrutura
Especificações
Número do modelo :
ALD-NP-X—X
Lugar de origem :
Chengdu, PR CHINA
Quantidade Mínima de Pedido :
break
Termos de pagamento :
T/T
capacidade de fornecimento :
Caso a caso
Tempo de entrega :
Caso a caso
Detalhes da embalagem :
caixa de madeira
Peso :
Customizável
Tamanho :
Customizável
Periodo de garantia :
1 ano ou caso a caso
Customizável :
Disponível
Termos de envio :
Marítimo / Aéreo / Transporte Multimodal
Descrição

Deposição de camadas atômicas na indústria de nanoestruturas e padrões


Formulários

Formulários Propósito específico
Nanoestrutura e padrão

Nanoestrutura assistida por modelo
Nanoestrutura assistida por catalisador
ALD regiosseletiva para preparação de nanopadrões


Princípio de trabalho
A deposição de camada atômica é um método de formação de filme fazendo com que os precursores da fase gasosa sejam pulsados ​​alternadamente
na câmara de reação e produzindo a reação de quimissorção de fase sólida-gás no substrato depositado
superfície.Quando os precursoresatingirem a superfície do substrato depositado, serão adsorvidos quimicamente
a superfície e produzir as reações de superfície.


Características

Modelo ALD-NP-X—X
Sistema de filme de revestimento AL2O3,TiO2,ZnO, etc
Faixa de temperatura do revestimento Temperatura normal a 500 ℃ (personalizável)
Tamanho da câmara de vácuo de revestimento

Diâmetro interno: 1200mm, Altura: 500mm (Personalizável)
Estrutura da câmara de vácuo De acordo com os requisitos do cliente
vácuo de fundo <5×10-7mbar
Espessura do revestimento ≥0,15 nm
Precisão do controle de espessura ±0,1nm
Tamanho do revestimento 200×200mm² / 400×400mm² / 1200×1200 mm², etc.
Uniformidade da espessura do filme ≤±0,5%
Gás precursor e carreador

Trimetilalumínio, tetracloreto de titânio, dietil zinco, água pura,
nitrogênio, etc
Nota: Produção personalizada disponível.


Amostras de Revestimento

Equipamento de deposição de camada atômica AL2O3 para indústria de padrão de nanoestruturaEquipamento de deposição de camada atômica AL2O3 para indústria de padrão de nanoestrutura

Etapas do processo
→ Colocar o substrato para revestimento na câmara de vácuo;
→ Aspire a câmara de vácuo em alta e baixa temperatura e gire o substrato de forma síncrona;
→ Revestimento inicial: o substrato é contatado com o precursor em sequência e sem reação simultânea;
→ Purgar com gás nitrogênio de alta pureza após cada reação;
→ Pare de girar o substrato depois que a espessura do filme atingir o padrão e a operação de purga e resfriamento for
concluída e, em seguida, retire o substrato depois que as condições de quebra de vácuo forem atendidas.

Nossas vantagens
Nós somos fabricante.
Processo maduro.
Resposta dentro de 24 horas úteis.


Nossa Certificação ISO
Equipamento de deposição de camada atômica AL2O3 para indústria de padrão de nanoestrutura

Partes de nossas patentes
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Partes de nossos prêmios e qualificações de P&D

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Detalhes do produto
Número do modelo :
ALD-NP-X—X
Lugar de origem :
Chengdu, PR CHINA
Quantidade Mínima de Pedido :
break
Termos de pagamento :
T/T
capacidade de fornecimento :
Caso a caso
Tempo de entrega :
Caso a caso
Fornecedor de contacto
vídeo
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ZEIT Group

Active Member
4 Anos
sichuan, chengdu
Desde 2018
Tipo de empresa :
Manufacturer, Exporter, Seller
Produtos principais :
, ,
Total Anual :
＄10,000,000-＄15,000,000
Número de trabalhadores :
120~200
Nível de certificação :
Active Member
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