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Máquina de deposição de camada atômica de TiO2 ZnO para indústria de energia
Máquina de deposição de camada atômica de TiO2 ZnO para indústria de energia
Especificações
Número do modelo :
ALD-E-X—X
Lugar de origem :
Chengdu, PR CHINA
Quantidade Mínima de Pedido :
break
Termos de pagamento :
T/T
capacidade de fornecimento :
Caso a caso
Tempo de entrega :
Caso a caso
Detalhes da embalagem :
caixa de madeira
Peso :
Customizável
Tamanho :
Customizável
Período de garantia :
1 ano ou caso por caso
Customizável :
Disponível
TERMOS DE ENVIO :
Marítimo / Aéreo / Transporte Multimodal
Descrição

Depósito atômico da camada na indústria energética
 
 
Aplicações

  Aplicações  Finalidade específica
 

Energia
 

  Células solares cristalinas do silicone: camada da camada do passivation/amortecedor/elétrodo transparente

  pilhas Tintura-sensibilizadas: camada de barreira do foto-ânodo/recombinação da carga
 Células combustíveis: membrana/cátodo/eletrólito/catalizador da troca de protão
  Bateria de íon de lítio: ânodo do nanostructure/cátodo/revestimento alterado elétrodo

  Materiais termoelétricos

 Camada material da proteção do elétrodo

 
Princípio de funcionamento
Há quatro etapas em processo do depósito atômico da camada:
1. Injete o primeiro gás do precursor na carcaça para ter uma reação da adsorção com superfície da carcaça.
2. Resplendor o gás restante com gás inerte.
3. Injete o segundo gás do precursor para ter uma reação química com o primeiro gás do precursor fixado na carcaça
filme do formulário do surfaceto.
4. Injete o gás inerte outra vez para nivelar afastado o gás adicional.
 
Características

  Modelo   ALD-E-X-X
 Sistema de revestimento do filme  AL2O3, TiO2, ZnO, etc.
  Variação da temperatura de revestimento   Temperatura normal a 500℃ (customizável)
  Tamanho de revestimento da câmara de vácuo

   Diâmetro interno: 1200mm, altura: 500mm (customizável)

  Estrutura da câmara de vácuo   De acordo com as exigências de cliente
  Vácuo do fundo   <5>-7mbar
  Espessura de revestimento   ≥0.15nm
  Precisão de controle da espessura   ±0.1nm
  Tamanho de revestimento   ² do ² do ² de 200×200mm/400×400mm/1200×1200 milímetro, etc.
  Uniformidade da espessura de filme   ≤±0.5%
  Gás do precursor e de portador

   Trimethylaluminum, tetracloreto do titânio, zinco diethyl, água pura,
nitrogênio, etc.

Nota: Produção personalizada disponível.

                                                                                                                
Amostras de revestimento
Máquina de deposição de camada atômica de TiO2 ZnO para indústria de energiaMáquina de deposição de camada atômica de TiO2 ZnO para indústria de energia
Etapa do processo
O → coloca a carcaça para revestir na câmara de vácuo;
→ Vacuumize a câmara de vácuo na temperatura do alto e baixo, e para girar synchronously a carcaça;
O → começa revestir: a carcaça é contactada com precursor em ordem e sem reação simultânea;
O → remove-o com gás do nitrogênio da alto-pureza após cada reação;
A parada do → que gerencie a carcaça depois que a espessura de filme é até padrão e a operação da remoção e de refrigerar é
terminado, a seguir tome a carcaça após o vácuo que quebra circunstâncias são encontrados para fora.
 
Nossas vantagens
Nós somos fabricante.
Processo maduro.
Resposta dentro de 24 horários laborais.
 
Nossa certificação do ISO
Máquina de deposição de camada atômica de TiO2 ZnO para indústria de energia
 
Partes de nossas patentes
Máquina de deposição de camada atômica de TiO2 ZnO para indústria de energiaMáquina de deposição de camada atômica de TiO2 ZnO para indústria de energia
 
Partes de nossas concessões e qualificações do R&D

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Fornecedor de contacto
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4 Anos
sichuan, chengdu
Desde 2018
Tipo de empresa :
Manufacturer, Exporter, Seller
Produtos principais :
, ,
Total Anual :
＄10,000,000-＄15,000,000
Número de trabalhadores :
120~200
Nível de certificação :
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