JDCD04-001-005 10x15mm²(-201)G autônomo dopado com UID₂O₃Polimento simples de grau de produto de substrato monocristal

10x15mm²(-201)Substrato monocristal Ga2O3 dopado com UID Grau de produto polimento único Espessura 0,6~0,8mm FWHM＜350arcsec,Ra≤0,5nm Resistência 4,13E+17Ω/cm^-3Dispositivos optoeletrônicos, camadas isolantes de materiais semicondutores e filtros UV

Com maior eficiência energética, peças de trabalho necessárias menores e uma frequência de comutação mais alta, a densidade de energia é aumentada, o que, quando todos esses fatores são considerados, leva a velocidades de dispositivo muito mais rápidas.O poder de processamento é bastante aumentado em comparação com dispositivos baseados em silício.Assim, se você comparar um dispositivo de gálio com um de silício, as velocidades de processamento no dispositivo de nitreto de gálio serão visivelmente maiores.

Sobre nós

Nós nos especializamos no processamento de uma variedade de materiais em wafers, substratos e peças personalizadas de vidro óptico. Componentes amplamente utilizados em eletrônica, óptica, optoeletrônica e muitos outros campos.Também trabalhamos em estreita colaboração com muitas universidades nacionais e estrangeiras, instituições de pesquisa e empresas, fornecendo produtos e serviços personalizados para seus projetos de P&D.É nossa visão manter um bom relacionamento de cooperação com todos os nossos clientes por nossa boa reputação.

Perguntas frequentes

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