Ra≤0,3nm Espessura do substrato de cristal único Orientação de 0,6 a 0,8 mm (-201)

10x10mm²(-201) Ga independente dopado com Fe₂O₃substrato de cristal único Grau de produto polimento único Espessura 0,6~0,8 mm FWHM＜350arcsec, Ra≤0,3 nm Dispositivos optoeletrônicos, camadas isolantes de materiais semicondutores e filtros UV

O número de publicações sobre Ga₂O₃tem acelerado nos últimos anos, como fica evidente na Figura 1, devido ao interesse em dispositivos eletrônicos e fotônicos com capacidades além das tecnologias existentes.Tem havido um equilíbrio saudável de investigações experimentais e teóricas das propriedades do Ga₂O₃sistema

Sobre nós

Nós nos especializamos no processamento de uma variedade de materiais em wafers, substratos e peças personalizadas de vidro óptico. Componentes amplamente utilizados em eletrônica, óptica, optoeletrônica e muitos outros campos.Também trabalhamos em estreita colaboração com muitas universidades nacionais e estrangeiras, instituições de pesquisa e empresas, fornecendo produtos e serviços personalizados para seus projetos de P&D.É nossa visão manter um bom relacionamento de cooperação com todos os nossos clientes por nossa boa reputação.

Perguntas frequentes

Q: você está negociando empresa ou fabricante?
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