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IC LSI Eletrodo Semicondutor Sistemas Detectores Magnetron Sputtering Deposition
IC LSI Eletrodo Semicondutor Sistemas Detectores Magnetron Sputtering Deposition
Especificações
Número do modelo :
MSC-SEM-X—X
Lugar de origem :
Chengdu, PR CHINA
Quantidade Mínima de Pedido :
break
Termos de pagamento :
T/T
capacidade de fornecimento :
Caso a caso
Tempo de entrega :
Caso a caso
Detalhes da embalagem :
Caixa de madeira
Peso :
Customizável
Tamanho :
Customizável
Customizável :
Disponível
Periodo de garantia :
1 ano ou caso a caso
Termos de envio :
Marítimo / Aéreo / Transporte Multimodal
Descrição

Deposição de Magnetron Sputtering na Indústria de Semicondutores

Formulários

Formulários Propósito específico tipo de material
Semicondutor IC, eletrodo LSI, filme de fiação AI, Al-Si, Al-Si-Cu, Cu, Au, Pt, Pd, Ag
Eletrodo de memória VLSI Mo, W, Ti
Filme de barreira de difusão MoSix, Wsix, TaSix,, TiSx, W, Mo, W-Ti
filme adesivo PZT(Pb-ZrO2-Ti), Ti, W

Princípio de trabalho

Princípio de pulverização catódica: sob a ação do campo elétrico, os elétrons colidem com os átomos de argônio no processo

de voar para o substrato em alta velocidade, ionizando muitos íons de argônio e elétrons, e então os elétrons voam para o

substrato.Os íons de argônio bombardeiam o alvo em alta velocidade sob a ação do campo elétrico, espalhando muito alvo

átomos, então os átomos alvo neutros (ou moléculas) se depositam no substrato para formar filmes.

Características

Modelo MSC-SEM-X—X
Tipo de revestimento Vários filmes dielétricos, como filme metálico, óxido metálico e AIN
Faixa de temperatura do revestimento Temperatura normal a 500 ℃
Tamanho da câmara de vácuo de revestimento 700mm*750mm*700mm (Personalizável)
vácuo de fundo < 5×10-7mbar
Espessura do revestimento ≥ 10nm
Precisão do controle de espessura ≤ ±3%
Tamanho máximo do revestimento ≥ 100mm (Personalizável)
Uniformidade da espessura do filme ≤ ±0,5%
transportador de substrato Com mecanismo de rotação planetária
Material alvo 4 × 4 polegadas (compatível com 4 polegadas e abaixo)
Fonte de energia As fontes de alimentação como DC, pulso, RF, IF e bias são opcionais
gás de processo Ar, N2, ó2
Nota: Produção personalizada disponível.

Amostra de Revestimento

IC LSI Eletrodo Semicondutor Sistemas Detectores Magnetron Sputtering Deposition

Etapas do processo

→ Colocar o substrato para revestimento na câmara de vácuo;

→ Aspirar grosseiramente;

→ Ligue a bomba molecular, aspire na velocidade máxima, depois ligue a revolução e a rotação;

→ Aquecimento da câmara de vácuo até que a temperatura atinja o alvo;

→ Implementar o controle de temperatura constante;

→ Elementos limpos;

→ Revolver e voltar à origem;

→ Filme de revestimento de acordo com os requisitos do processo;

→ Abaixar a temperatura e parar o conjunto da bomba após o revestimento;

→ Pare de trabalhar quando a operação automática terminar.

Nossas vantagens

Nós somos fabricante.

Processo maduro.

Resposta dentro de 24 horas úteis.

Nossa Certificação ISO

IC LSI Eletrodo Semicondutor Sistemas Detectores Magnetron Sputtering Deposition

Partes de nossas patentes

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Partes de nossos prêmios e qualificações de P&D

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Detalhes do produto
Número do modelo :
MSC-SEM-X—X
Lugar de origem :
Chengdu, PR CHINA
Quantidade Mínima de Pedido :
break
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T/T
capacidade de fornecimento :
Caso a caso
Tempo de entrega :
Caso a caso
Fornecedor de contacto
vídeo
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ZEIT Group

Active Member
4 Anos
sichuan, chengdu
Desde 2018
Tipo de empresa :
Manufacturer, Exporter, Seller
Produtos principais :
, ,
Total Anual :
＄10,000,000-＄15,000,000
Número de trabalhadores :
120~200
Nível de certificação :
Active Member
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