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Sistema de deposição por pulverização catódica de magnetron de filme superduro em campo de filme funcional
Sistema de deposição por pulverização catódica de magnetron de filme superduro em campo de filme funcional
Especificações
Número do modelo :
MSC-FF-X—X
Lugar de origem :
Chengdu, PR CHINA
Quantidade Mínima de Pedido :
1conjunto
Termos de pagamento :
T/T
capacidade de fornecimento :
Caso a caso
Tempo de entrega :
Caso a caso
Detalhes da embalagem :
caixa de madeira
Peso :
Customizável
Tamanho :
Customizável
Customizável :
Disponível
Periodo de garantia :
1 ano ou caso a caso
Termos de envio :
Marítimo / Aéreo / Transporte Multimodal
Descrição

Deposição de Magnetron Sputtering em Campo de Filme Funcional

Formulários

Formulários Propósito específico tipo de material
filme funcional filme superhard TiN, TiC

Filme à prova de luz

 Cr, AlSi, AlTi, etc
filme resistivo NiCrSi, CrSi, MoTa, etc
filme supercondutor YbaCuO, BiSrCaCuo
filme magnético Fe, Co, Ni, FeMn, FeNi, etc

Princípio de trabalho

Existem muitos tipos de pulverização catódica com diferentes princípios de trabalho e objetos de aplicação.Mas lá

tem uma coisa em comum: faz com que os elétrons percorram trajetórias espirais perto da superfície do alvo pela interação entre

campos magnéticos e elétricos, aumentando assim a probabilidade de geração de íons provenientes de elétrons que atingem o argônio.

Os íons gerados então atingem a superfície do alvo sob a ação do campo elétrico e espalham os materiais do alvo.

Características

Modelo MSC-FF-X—X
Tipo de revestimento Vários filmes dielétricos, como filme metálico, óxido metálico e AIN
Faixa de temperatura do revestimento Temperatura normal a 500 ℃
Tamanho da câmara de vácuo de revestimento 700mm*750mm*700mm (Personalizável)
vácuo de fundo < 5×10-7mbar
Espessura do revestimento ≥ 10nm
Precisão do controle de espessura ≤ ±3%
Tamanho máximo do revestimento ≥ 100mm (Personalizável)
Uniformidade da espessura do filme ≤ ±0,5%
transportador de substrato Com mecanismo de rotação planetária
Material alvo 4 × 4 polegadas (compatível com 4 polegadas e abaixo)
Fonte de energia As fontes de alimentação como DC, pulso, RF, IF e bias são opcionais
gás de processo Ar, N2, ó2
Nota: Produção personalizada disponível.

Amostra de Revestimento

Sistema de deposição por pulverização catódica de magnetron de filme superduro em campo de filme funcional

Etapas do processo

→ Colocar o substrato para revestimento na câmara de vácuo;

→ Aspirar grosseiramente;

→ Ligue a bomba molecular, aspirena velocidade máxima, ligue a revolução e a rotação;

→ Aquecendo a câmara de vácuo até que a temperatura atinja oalvo;

→ Implementar o controle de temperatura constante;

→ Elementos limpos;

→ Revolver e voltar à origem;

→ Filme de revestimento de acordo com os requisitos do processo;

→ Abaixar a temperatura e parar o conjunto da bomba após o revestimento;

→ Pare de trabalhar quandoa operação automática é concluída.

Nossas vantagens

Nós somos fabricante.

Processo maduro.

Resposta dentro de 24 horas úteis.

Nossa Certificação ISO

Sistema de deposição por pulverização catódica de magnetron de filme superduro em campo de filme funcional

Partes de nossas patentes

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Partes de nossos prêmios e qualificações de P&D

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Detalhes do produto
Número do modelo :
MSC-FF-X—X
Lugar de origem :
Chengdu, PR CHINA
Quantidade Mínima de Pedido :
1conjunto
Termos de pagamento :
T/T
capacidade de fornecimento :
Caso a caso
Tempo de entrega :
Caso a caso
Fornecedor de contacto
vídeo
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ZEIT Group

Active Member
4 Anos
sichuan, chengdu
Desde 2018
Tipo de empresa :
Manufacturer, Exporter, Seller
Produtos principais :
, ,
Total Anual :
＄10,000,000-＄15,000,000
Número de trabalhadores :
120~200
Nível de certificação :
Active Member
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