Deposição catódica de magnetron na indústria de baterias de película fina de perovskita


Formulários

Princípio de trabalho
A pulverização catódica do magnetron é para restringir e estender os caminhos de movimento do elétron pelo campo magnético, alterar o movimento
as direções do elétron, aumentam a taxa de ionização do gás de trabalho e usam efetivamente a energia dos elétrons.
A pulverização catódica de magnetron tem as seguintes características: taxa de deposição rápida, alta eficiência de deposição, adequada para
aplicação em larga escala na produção industrial;baixa temperatura do substrato, adequado para o revestimento de plásticos e
outros substratos resistentes ao calor;alta pureza dos filmes preparados, boa compacidade, melhor uniformidade do filme e forte
coesão filme-substrato;metal, liga, óxido e outros filmes podem ser preparados;livre de poluição.

Características

Amostra de Revestimento

Etapas do processo
→ Colocar o substrato para revestimento na câmara de vácuo;
→ Aspirar grosseiramente;
→ Ligue a bomba molecular, aspire na velocidade máxima, depois ligue a revolução e a rotação;
→ Aquecimento da câmara de vácuo até que a temperatura atinja o alvo;
→ Implementar o controle de temperatura constante;
→ Elementos limpos;
→ Revolver e voltar à origem;
→ Filme de revestimento de acordo com os requisitos do processo;
→ Abaixar a temperatura e parar o conjunto da bomba após o revestimento;
→ Pare de trabalhar quando a operação automática terminar.

Nossas vantagens
Nós somos fabricante.
Processo maduro.
Resposta dentro de 24 horas úteis.

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